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當(dāng)前位置:首頁技術(shù)文章功率MOSFET技術(shù)資料

功率MOSFET技術(shù)資料

更新時間:2022-09-29點(diǎn)擊次數(shù):1868

什么是功率 MOSFET?


我們都懂得如何利用二極管來實(shí)現(xiàn)開關(guān),但是,我們只能對其進(jìn)行開關(guān)操作,而不能逐漸控制信號流。此外,二極管作為開關(guān)取決于信號流的方向;我們不能對其編程以通過或屏蔽一個信號。對于諸如“流控制”或可編程開關(guān)之類的應(yīng)用,我們需要一種三端器件和雙極型三極管。我們都聽說過 Bardeen &Brattain,是他們偶然之間發(fā)明了三極管,就像許多其它偉大的發(fā)現(xiàn)一樣。


 


結(jié)構(gòu)上,它由兩個背靠背的結(jié)實(shí)現(xiàn)(這不是一筆大交易,早在 Bardeen 之前,我們可能就是采用相同的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了共陰極),但是,在功能上它是*不同的器件,就像一個控制發(fā)射極電流流動的“龍頭”—操作龍頭的“手”就是基極電流。雙極型三極管因此就是電流受控的器件。


場效應(yīng)三極管(FET)盡管結(jié)構(gòu)上不同,但是,提供相同的“龍頭”功能。差異在于:FET 是電壓受控器件;你不需要基極電流,而是要用電壓實(shí)施電流控制。雙極型三極管誕生于 1947 年,不久之后一對杰出的父子 Shockley 和 Pearson 就發(fā)明了(至少是概念)FET。為了與較早出現(xiàn)的雙極型“孿生兄弟”相區(qū)別,F(xiàn)ET的三個電極分別被稱為漏極、柵極和源極,對應(yīng)的三極管的三個電極分別是集電極、基極和發(fā)射極。FET有兩個主要變種,它們針對不同類型的應(yīng)用做了優(yōu)化。JFET(結(jié)型 FET)被用于小信號處理,而MOSFET(金屬氧化物半導(dǎo)體 FET)主要被用于線性或開關(guān)電源應(yīng)用。


他們?yōu)槭裁匆l(fā)明功率 MOSFET?

當(dāng)把雙極型三極管按照比例提高到功率應(yīng)用的時候,它顯露出一些惱人的局限性。確實(shí),你仍然可以在洗衣機(jī)、空調(diào)機(jī)和電冰箱中找到它們的蹤影,但是,對我們這些能夠忍受一定程度的家用電器低效能的一般消費(fèi)者來說,這些應(yīng)用都是低功率應(yīng)用。在一些 UPS、電機(jī)控制或焊接機(jī)器人中仍然采用雙極型三極管,但是,它們的用途實(shí)際上被限制到小于 10KHz 的應(yīng)用,并且在整體效率成為關(guān)鍵參數(shù)的技術(shù)前沿應(yīng)用中,它們正加速退出。


作為雙極型器件,三極管依賴于被注入到基極的少數(shù)載流子來“擊敗”(電子和空穴)復(fù)合并被再次注入集電極。為了維持大的集電極電流,我們要從發(fā)射極一側(cè)把電流注入基極,如果可能的話,在基極/集電極的邊界恢復(fù)所有的電流(意味著在基極的復(fù)合要保持為最小)。


但是,這意味著當(dāng)我們想要三極管打開的時候,在基極中存在復(fù)合因子低的大量少數(shù)載流子,開關(guān)在閉合之前要對它們進(jìn)行處理,換言之,與所有少數(shù)載流子器件相關(guān)的存儲電荷問題限制了最大工作速度。FET 的主要優(yōu)勢目前帶來了一線曙光:作為多數(shù)載流子器件,不存在已存儲的少數(shù)電荷問題,因此,其工作頻率要高得多。MOSFET 的開關(guān)延遲特性*是因?yàn)榧纳娙莸某潆姾头烹姟?/span>


人們可能會說:在高頻應(yīng)用中需要開關(guān)速度快的 MOSFET,但是,在我的速度相對較低的電路中,為什么要采用這種器件?答案是直截了當(dāng)?shù)模焊纳菩?。該器件在開關(guān)狀態(tài)的持續(xù)時間間隔期間,既具有大電流,又具有高電壓;由于器件的工作速度更快,所以,所損耗的能量就較少。在許多應(yīng)用中,僅僅這個優(yōu)勢就足以補(bǔ)償較高電壓 MOSFET 存在的導(dǎo)通損耗稍高的問題,例如,如果不用它的話,頻率為150KHz 以上的開關(guān)模式電源(SMPS)根本就無法實(shí)現(xiàn)。


雙極型三極管受電流驅(qū)動,實(shí)際上,因?yàn)樵鲆?集電極和基極電流之比)隨集電極電流(IC)的增加而大幅度降低,我們要驅(qū)動的電流越大,則我們需要提供給基極的電流也越大。一個結(jié)果使雙極型三極管開始消耗大量的控制功率,從而降低了整個電路的效率。


使事情更糟糕的是:這種缺點(diǎn)在工作溫度更高的情況下會加重。另外一個結(jié)果是需要能夠快速泵出和吸收電流的相當(dāng)復(fù)雜的基極驅(qū)動電路。相比之下,(MOS)FET 這種器件在柵極實(shí)際上消耗的電流為零;甚至在 125°C 的典型柵極電流都小于100nA。一旦寄生電容被充電,由驅(qū)動電路提供的泄漏電流就非常低。此外,用電壓驅(qū)動比用電流驅(qū)動的電路簡單,這正是(MOS)FET 為什么對設(shè)計(jì)工程師如此有吸引力的另外一個原因。


另一方面,其主要優(yōu)點(diǎn)是不存在二次損壞機(jī)制。如果嘗試用雙極型三極管來阻塞大量的功率,在任何半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中的不可避免的本地缺陷將扮演聚集電流的作用,結(jié)果將局部加熱硅片。因?yàn)殡娮璧臏囟认禂?shù)是負(fù)的,本地缺陷將起到低阻電流路徑的作用,導(dǎo)致流入它的電流更多,自身發(fā)熱越來越多,最終出現(xiàn)不可逆轉(zhuǎn)的破壞。相比之下,MOSFET 具有正的電阻熱系數(shù)。


另一方面,隨著溫度的升高,RDS(on)增加的劣勢可以被感察覺到,由于載子移動性在 25°C 和 125°C之間降低,這個重要的參數(shù)大概要翻番。再一方面,這同一個現(xiàn)象帶來了巨大的優(yōu)勢:任何試圖像上述那樣發(fā)生作用的缺陷實(shí)際上都會從它分流—我們將看到的是“冷卻點(diǎn)”而不是對雙極器件的“熱點(diǎn)”特性!這種自冷卻機(jī)制的同等重要的結(jié)果是便于并聯(lián) MOSFET 以提升某種器件的電流性能。


雙極型三極管對于并聯(lián)非常敏感,要采取預(yù)防措施以平分電流(發(fā)射極穩(wěn)定電阻、快速響應(yīng)電流感應(yīng)反饋環(huán)路),否則,具有低飽和電壓的器件會轉(zhuǎn)移大部分的電流,從而出現(xiàn)上述的過熱并最終導(dǎo)致短路。


要注意 MOSFET,除了設(shè)計(jì)保險的對稱電路和平衡柵極之外,它們不需要其它措施就可以被并聯(lián)起來,所以,它們同等地打開,讓所有的三極管中流過相同大小的電流。此外,好處還在于如果柵極沒有獲得平衡,并且溝道打開的程度不同,這仍然會導(dǎo)致穩(wěn)態(tài)條件下存在一定的漏極電流,并且比其它的要稍大。


對設(shè)計(jì)工程師有吸引力的一個有用功能是 MOSFET 具有特別的結(jié)構(gòu):在源極和漏極之間存在“寄生”體二極管。盡管它沒有對快速開關(guān)或低導(dǎo)通損耗進(jìn)行優(yōu)化,在電感負(fù)載開關(guān)應(yīng)用中,它不需要增加額外的成本就起到了箝位二極管的作用。


MOSFET 結(jié)構(gòu)

JFET 的基本想法(圖 1)是通過調(diào)節(jié)(夾斷)漏-源溝道之間的截面積來控制流過從源極到漏極的電流。利用反相偏置的結(jié)作為柵極可以實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn);其(反相)電壓調(diào)節(jié)耗盡區(qū),結(jié)果夾斷溝道,并通過減少其截面積來提高它的電阻。由于柵極沒有施加電壓,溝道的電阻數(shù)值低,并且流過器件的漏極電流最大。隨著柵極電壓的增加,兩個耗盡區(qū)的開頭前進(jìn),通過提高溝道電阻降低了漏極電流,直到兩個耗盡區(qū)的開頭相遇時才會出現(xiàn)總的夾斷。

 

 

 

MOSFET 利用不同類型的柵極結(jié)構(gòu)開發(fā)了 MOS 電容的特性。通過改變施加在 MOS 結(jié)構(gòu)的頂端電極的偏置的數(shù)值和極性,你可以全程驅(qū)動它下面的芯片直到反轉(zhuǎn)。圖 2 顯示了一個 N 溝道 MOSFET 的簡化結(jié)構(gòu),人們稱之為垂直、雙擴(kuò)散結(jié)構(gòu),它以高度濃縮的 n 型襯底開始,以最小化溝道部分的體電阻。


在它上面要生長了一層 n-epi,并制成了兩個連續(xù)的擴(kuò)散區(qū),p 區(qū)中合適的偏置將產(chǎn)生溝道,而在它里面擴(kuò)散出的 n+區(qū)定義了源極。下一步,在形成磷摻雜多晶硅之后,要生長薄的高品質(zhì)柵極氧化層,從而形成柵極。要在定義源極和柵電極的頂層上開接觸窗口,與此同時,整個晶圓的底層使漏極接觸。由于在柵極上沒有偏置,n+源和 n 漏被 p 區(qū)分隔,并且沒有電流流過(三極管被關(guān)閉)。


如果向柵極施加正偏置,在 p 區(qū)中的少數(shù)載流子(電子)就被吸引到柵極板下面的表面。隨著偏置電壓的增加,越來越多的電子被禁閉在這塊小空間之中,本地的“少子”集中比空穴(p)集中還要多,從而出現(xiàn)“反轉(zhuǎn)”(意味著柵極下面的材料立即從 p 型變成 n 型)。現(xiàn)在,在把源極連接到漏極的柵結(jié)構(gòu)的下面的 p 型材料中形成了 n“溝道”;電流可以流過。就像在 JFET(盡管物理現(xiàn)象不同)中的情形一樣,柵極(依靠其電壓偏置)控制源極和漏極之間的電流。

 

 

 

MOSFET 制造商很多,幾乎每一家制造商都有其工藝優(yōu)化和商標(biāo)。IR 是 HEXFET 先鋒,摩托羅拉構(gòu)建了 TMOS,Ixys 制成了 HiPerFET 和 MegaMOS,西門子擁有 SIPMOS 家族的功率三極管,而 AdvancedPower Technology 擁有 Power MOS IV 技術(shù),不一而足。不論工藝被稱為 VMOS、TMOS 或 DMOS,它都具有水平的柵結(jié)構(gòu)且電流垂直流過柵極。


功率 MOSFET 的特別之處在于:包含像圖 2 中并行連接所描述的那樣的多個“單元”的結(jié)構(gòu)。具有相同RDS(on)電阻的 MOSFET 并聯(lián),其等效電阻為一個MOSFET 單元的 RDS(on)的 1/n。裸片面積越大,其導(dǎo)通電阻就越低,但是,與此同時,寄生電容就越大,因此,其開關(guān)性能就越差。


如果一切都是如此嚴(yán)格成正比且可以預(yù)測的話,有什么改進(jìn)的辦法嗎?是的,其思路就是最小化(調(diào)低)基本單元的面積,這樣在相同的占位空間中可以集成更多的單元,從而使 RDS(on)下降,并維持電容不變。為了成功地改良每一代 MOSFET 產(chǎn)品,有必要持續(xù)地進(jìn)行技術(shù)改良并改進(jìn)晶體圓制造工藝(更出色的線蝕刻、更好的受控灌注等等)。


但是,持續(xù)不斷地努力開發(fā)更好的工藝技術(shù)不是改良 MOSFET 的途徑;概念設(shè)計(jì)的變革可能會極大地提高性能。這樣的突破就是飛利浦去年 11 月宣布:開發(fā)成功 TrenchMOS 工藝。其柵結(jié)構(gòu)不是與裸片表面平行,現(xiàn)在是構(gòu)建在溝道之中,垂直于表面,因此,占用的空間較少并且使電流的流動真正是垂直的(見圖 3)。在 RDS(on)相同的情況下,飛利浦的三極管把面積減少了 50%;或者,在相同的電流處理能力下,把面積減少了 35%。

 

 

 

本文小結(jié)

我們把 MOSFET 與更為著名、更為常用的雙極型三極管進(jìn)行了比較,我們看到MOSFET 比 BJT 所具備的主要優(yōu)勢,我們現(xiàn)在也意識到一些折衷。最重要的結(jié)論在于:整個電路的效率是由具體應(yīng)用決定的;工程師要在所有的工作條件下仔細(xì)地評估傳導(dǎo)和開關(guān)損耗的平衡,然后,決定所要使用的器件是常規(guī)的雙極型、MOSFET 或可能是 IGBT?

 

1.概述

MOSFET 的原意是:MOS(Metal Oxide Semiconductor 金屬氧化物半導(dǎo)體),F(xiàn)ET(Field Effect Transistor 場效應(yīng)晶體管),即以金屬層(M)的柵極隔著氧化層(O)利用電場的效應(yīng)來控制半導(dǎo)體(S)的場效應(yīng)晶體管。


功率場效應(yīng)晶體管也分為結(jié)型和絕緣柵型,但通常主要指絕緣柵型中的 MOS 型(Metal Oxide Semiconductor FET),簡稱功率 MOSFET(Power MOSFET)。結(jié)型功率場效應(yīng)晶體管一般稱作靜電感應(yīng)晶體管(Static Induction Transistor——SIT)。其特點(diǎn)是用柵極電壓來控制漏極電流,驅(qū)動電路簡單,需要的驅(qū)動功率小,開關(guān)速度快,工作頻率高,熱穩(wěn)定性優(yōu)于 GTR,但其電流容量小,耐壓低,一般只適用于功率不超過 10kW 的電力電子裝置。


2.功率 MOSFET 的結(jié)構(gòu)和工作原理

功率 MOSFET 的種類:按導(dǎo)電溝道可分為 P 溝道和 N 溝道。按柵極電壓幅值可分為;耗盡型;當(dāng)柵極電壓為零時漏源極之間就存在導(dǎo)電溝道,增強(qiáng)型;對于N(P)溝道器件,柵極電壓大于(小于)零時才存在導(dǎo)電溝道,功率 MOSFET 主要是 N溝道增強(qiáng)型。


2.1 功率 MOSFET 的結(jié)構(gòu)


功率 MOSFET 的內(nèi)部結(jié)構(gòu)和電氣符號如圖 1 所示;其導(dǎo)通時只有一種極性的載流子(多子)參與導(dǎo)電,是單極型晶體管。導(dǎo)電機(jī)理與小功率 mos 管相同,但結(jié)構(gòu)上有較大區(qū)別,小功率 MOS 管是橫向?qū)щ娖骷?,功?MOSFET 大都采用垂直導(dǎo)電結(jié)構(gòu),又稱為 VMOSFET(Vertical MOSFET),大大提高了 MOSFET 器件的耐壓和耐電流能力。


按垂直導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的差異,又分為利用 V 型槽實(shí)現(xiàn)垂直導(dǎo)電的 VVMOSFET 和具有垂直導(dǎo)電雙擴(kuò)散 MOS 結(jié)構(gòu)的 VDMOSFET(Vertical Double-diffused MOSFET),本文主要以 VDMOS 器件為例進(jìn)行討論。


功率 MOSFET 為多元集成結(jié)構(gòu),如國際整流器公司(International Rectifier)的 HEXFET 采用了六邊形單元;西門子公司(Siemens)的 SIPMOSFET 采用了正方形單元;摩托羅拉公司(Motorola)的 TMOS 采用了矩形單元按“品”字形排列。


2.2 功率 MOSFET 的工作原理

截止:漏源極間加正電源,柵源極間電壓為零。P 基區(qū)與 N 漂移區(qū)之間形成的 PN 結(jié) J1 反偏,漏源極之間無電流流過。


導(dǎo)電:在柵源極間加正電壓 UGS,柵極是絕緣的,所以不會有柵極電流流過。但柵極的正電壓會將其下面 P 區(qū)中的空穴推開,而將 P 區(qū)中的少子—電子吸引到柵極下面的 P 區(qū)表面。


當(dāng) UGS 大于 UT(開啟電壓或閾值電壓)時,柵極下 P 區(qū)表面的電子濃度將超過空穴濃度,使 P 型半導(dǎo)體反型成 N 型而成為反型層,該反型層形成 N 溝道而使 PN 結(jié) J1 消失,漏極和源極導(dǎo)電。


2.3 功率 MOSFET 的基本特性

2.3.1 靜態(tài)特性;其轉(zhuǎn)移特性和輸出特性如圖 2 所示


漏極電流 ID 和柵源間電壓 UGS 的關(guān)系稱為 MOSFET 的轉(zhuǎn)移特性,ID 較大時,ID 與 UGS 的關(guān)系近似線性,曲線的斜率定義為跨導(dǎo) GfsMOSFET 的漏極伏安特性(輸出特性):截止區(qū)(對應(yīng)于 GTR 的截止區(qū));飽和區(qū)(對應(yīng)于 GTR 的放大區(qū));非飽和區(qū)(對應(yīng)于 GTR 的飽和區(qū))。電力 MOSFET 工作在開關(guān)狀態(tài),即在截止區(qū)和非飽和區(qū)之間來回轉(zhuǎn)換。電力 MOSFET 漏源極之間有寄生二極管,漏源極間加反向電壓時器件導(dǎo)通。電力 MOSFET 的通態(tài)電阻具有正溫度系數(shù),對器件并聯(lián)時的均流有利。


2.3.2 動態(tài)特性;其測試電路和開關(guān)過程波形如圖 3 所示。

開通過程;開通延遲時間 td(on) —up 前沿時刻到 uGS=UT 并開始出現(xiàn) iD 的時刻間的時間段;上升時間 tr— uGS 從 uT 上升到 MOSFET 進(jìn)入非飽和區(qū)的柵壓 UGSP 的時間段;iD 穩(wěn)態(tài)值由漏極電源電壓 UE 和漏極負(fù)載電阻決定。UGSP 的大小和 iD 的穩(wěn)態(tài)值有關(guān),UGS 達(dá)到 UGSP 后,在 up 作用下繼續(xù)升高直至達(dá)到穩(wěn)態(tài),但 iD 已不變。


開通時間 ton—開通延遲時間與上升時間之和。


關(guān)斷延遲時間 td(off) —up 下降到零起,Cin 通過 Rs 和 RG 放電,uGS 按指數(shù)曲線下降到 UGSP 時,iD 開始減小為零的時間段。


下降時間 tf— uGS 從 UGSP 繼續(xù)下降起,iD 減小,到 uGS


關(guān)斷時間 toff—關(guān)斷延遲時間和下降時間之和。


2.3.3 MOSFET 的開關(guān)速度

MOSFET 的開關(guān)速度和 Cin 充放電有很大關(guān)系,使用者無法降低 Cin,但可降低驅(qū)動電路內(nèi)阻 Rs減小時間常數(shù),加快開關(guān)速度,MOSFET 只靠多子導(dǎo)電,不存在少子儲存效應(yīng),因而關(guān)斷過程非常迅速,開關(guān)時間在 10—100ns之間,工作頻率可達(dá) 100kHz 以上,是主要電力電子器件中*高的。


場控器件靜態(tài)時幾乎不需輸入電流。但在開關(guān)過程中需對輸入電容充放電,仍需一定的驅(qū)動功率。開關(guān)頻率越高,所需要的驅(qū)動功率越大。


2.4 動態(tài)性能的改進(jìn)

在器件應(yīng)用時除了要考慮器件的電壓、電流、頻率外,還必須掌握在應(yīng)用中如何保護(hù)器件,不使器件在瞬態(tài)變化中受損害。


當(dāng)然晶閘管是兩個雙極型晶體管的組合,又加上因大面積帶來的大電容,所以其 dv/dt 能力是較為脆弱的。對 di/dt 來說,它還存在一個導(dǎo)通區(qū)的擴(kuò)展問題,所以也帶來相當(dāng)嚴(yán)格的限制。


功率 MOSFET 的情況有很大的不同。它的 dv/dt 及 di/dt 的能力常以每納秒(而不是每微秒)的能力來估量。但盡管如此,它也存在動態(tài)性能的限制。這些我們可以從功率 MOSFET 的基本結(jié)構(gòu)來予以理解。


圖 4 是功率 MOSFET 的結(jié)構(gòu)和其相應(yīng)的等效電路。除了器件的幾乎每一部分存在電容以外,還必須考慮 MOSFET 還并聯(lián)著一個二極管。同時從某個角度看、它還存在一個寄生晶體管。(就像 IGBT 也寄生著一個晶閘管一樣)。這幾個方面,是研究MOSFET 動態(tài)特性很重要的因素。


首先 MOSFET 結(jié)構(gòu)中所附帶的本征二極管具有一定的雪崩能力。通常用單次雪崩能力和重復(fù)雪崩能力來表達(dá)。當(dāng)反向 di/dt很大時,二極管會承受一個速度非常快的脈沖尖刺,它有可能進(jìn)入雪崩區(qū),一旦超越其雪崩能力就有可能將器件損壞。作為任一種 PN 結(jié)二極管來說,仔細(xì)研究其動態(tài)特性是相當(dāng)復(fù)雜的。它們和我們一般理解 PN 結(jié)正向時導(dǎo)通反向時阻斷的簡單概念很不相同。當(dāng)電流迅速下降時,二極管有一階段失去反向阻斷能力,即所謂反向恢復(fù)時間。PN 結(jié)要求迅速導(dǎo)通時,也會有一段時間并不顯示很低的電阻。在功率 MOSFET 中一旦二極管有正向注入,所注入的少數(shù)載流子也會增加作為多子器件的 MOSFET 的復(fù)雜性。


功率 MOSFET 的設(shè)計(jì)過程中采取措施使其中的寄生晶體管盡量不起作用。在不同代功率 MOSFET 中其措施各有不同,但總的原則是使漏極下的橫向電阻 RB 盡量小。因?yàn)橹挥性诼O N 區(qū)下的橫向電阻流過足夠電流為這個 N 區(qū)建立正偏的條件時,寄生的雙極性晶閘管才開始發(fā)難。然而在嚴(yán)峻的動態(tài)條件下,因 dv/dt 通過相應(yīng)電容引起的橫向電流有可能足夠大。此時這個寄生的雙極性晶體管就會起動,有可能給 MOSFET 帶來損壞。所以考慮瞬態(tài)性能時對功率 MOSFET 器件內(nèi)部的各個電容(它是dv/dt 的通道)都必須予以注意。


瞬態(tài)情況是和線路情況密切相關(guān)的,這方面在應(yīng)用中應(yīng)給予足夠重視。對器件要有深入了解,才能有利于理解和分析相應(yīng)的問題。


3.高壓 MOSFET 原理與性能分析

在功率半導(dǎo)體器件中,MOSFET 以高速、低開關(guān)損耗、低驅(qū)動損耗在各種功率變換,特別是高頻功率變換中起著重要作用。


在低壓領(lǐng)域,MOSFET 沒有競爭對手,但隨著 MOS 的耐壓提高,導(dǎo)通電阻隨之以 2.4-2.6 次方增長,其增長速度使 MOSFET制造者和應(yīng)用者不得不以數(shù)十倍的幅度降低額定電流,以折中額定電流、導(dǎo)通電阻和成本之間的矛盾。即便如此,高壓 MOSFET在額定結(jié)溫下的導(dǎo)通電阻產(chǎn)生的導(dǎo)通壓降仍居高不下,耐壓 500V 以上的 MOSFET 的額定結(jié)溫、額定電流條件下的導(dǎo)通電壓很高,耐壓 800V 以上的導(dǎo)通電壓高得驚人,導(dǎo)通損耗占 MOSFET 總損耗的 2/3-4/5,使應(yīng)用受到極大限制。


3.1 降低高壓 MOSFET 導(dǎo)通電阻的原理與方法

3.1.1 不同耐壓的 MOSFET 的導(dǎo)通電阻分布

不同耐壓的 MOSFET,其導(dǎo)通電阻中各部分電阻比例分布也不同。如耐壓30V 的 MOSFET,其外延層電阻僅為總導(dǎo)通電阻的 29%,耐壓 600V 的 MOSFET 的外延層電阻則是總導(dǎo)通電阻的 96.5%。由此可以推斷耐壓 800V 的 MOSFET 的導(dǎo)通電阻將幾乎被外延層電阻占據(jù)。欲獲得高阻斷電壓,就必須采用高電阻率的外延層,
并增厚。這就是常規(guī)高壓 MOSFET 結(jié)構(gòu)所導(dǎo)致的高導(dǎo)通電阻的根本原因。


3.1.2 降低高壓 MOSFET 導(dǎo)通電阻的思路。

增加管芯面積雖能降低導(dǎo)通電阻,但成本的提高所付出的代價是商業(yè)品所不允許的。引入少數(shù)載流子導(dǎo)電雖能降低導(dǎo)通壓降,但付出的代價是開關(guān)速度的降低并出現(xiàn)拖尾電流,開關(guān)損耗增加,失去了 MOSFET的高速的優(yōu)點(diǎn)。


以上兩種辦法不能降低高壓 MOSFET 的導(dǎo)通電阻,所剩的思路就是如何將阻斷高電壓的低摻雜、高電阻率區(qū)域和導(dǎo)電通道的高摻雜、低電阻率分開解決。如除導(dǎo)通時低摻雜的高耐壓外延層對導(dǎo)通電阻只能起增大作用外并無其他用途。這樣,是否可以將導(dǎo)電通道以高摻雜較低電阻率實(shí)現(xiàn),而在 MOSFET 關(guān)斷時,設(shè)法使這個通道以某種方式夾斷,使整個器件耐壓僅取決于低摻雜的 N-外延層。基于這種思想,1988 年 INFINEON 推出內(nèi)建橫向電場耐壓為 600V 的 COOLMOS,使這一想法得以實(shí)現(xiàn)。內(nèi)建橫向電場的高壓 MOSFET 的剖面結(jié)構(gòu)及高阻斷電壓低導(dǎo)通電阻的示意圖如圖 5 所示。


與常規(guī) MOSFET 結(jié)構(gòu)不同,內(nèi)建橫向電場的 MOSFET 嵌入垂直 P 區(qū)將垂直導(dǎo)電區(qū)域的 N 區(qū)夾在中間,使 MOSFET 關(guān)斷時,垂直的 P 與 N 之間建立橫向電場,并且垂直導(dǎo)電區(qū)域的 N 摻雜濃度高于其外延區(qū) N-的摻雜濃度。


當(dāng) VGS<VTH 時,由于被電場反型而產(chǎn)生的 N 型導(dǎo)電溝道不能形成,并且 D,S 間加正電壓,使 MOSFET 內(nèi)部 PN 結(jié)反偏形成耗盡層,并將垂直導(dǎo)電的 N 區(qū)耗盡。這個耗盡層具有縱向高阻斷電壓,如圖 5(b)所示,這時器件的耐壓取決于 P 與N-的耐壓。因此 N-的低摻雜、高電阻率是必需的。

 

 

 

 

 

當(dāng) CGS>VTH 時,被電場反型而產(chǎn)生的 N 型導(dǎo)電溝道形成。源極區(qū)的電子通過導(dǎo)電溝道進(jìn)入被耗盡的垂直的 N 區(qū)中和正電荷,從而恢復(fù)被耗盡的 N 型特性,因此導(dǎo)電溝道形成。由于垂直 N 區(qū)具有較低的電阻率,因而導(dǎo)通電阻較常規(guī) MOSFET 將明顯降低。


通過以上分析可以看到:阻斷電壓與導(dǎo)通電阻分別在不同的功能區(qū)域。將阻斷電壓與導(dǎo)通電阻功能分開,解決了阻斷電壓與導(dǎo)通電阻的矛盾,同時也將阻斷時的表面 PN 結(jié)轉(zhuǎn)化為掩埋 PN 結(jié),在相同的 N-摻雜濃度時,阻斷電壓還可進(jìn)一步提高。


3.2 內(nèi)建橫向電場 MOSFET 的主要特性

3.2.1 導(dǎo)通電阻的降低


INFINEON 的內(nèi)建橫向電場的 MOSFET,耐壓 600V 和 800V,與常規(guī) MOSFET 器件相比,相同的管芯面積,導(dǎo)通電阻分別下降到常規(guī) MOSFET 的 1/5, 1/10;相同的額定電流,導(dǎo)通電阻分別下降到 1/2 和約 1/3。在額定結(jié)溫、額定電流條件下,導(dǎo)通電壓分別從 12.6V,19.1V 下降到 6.07V,7.5V;導(dǎo)通損耗下降到常規(guī) MOSFET 的 1/2 和 1/3。由于導(dǎo)通損耗的降低,發(fā)熱減少,器件相對較涼,故稱 COOLMOS。


3.2.2 封裝的減小和熱阻的降低

相同額定電流的 COOLMOS 的管芯較常規(guī) MOSFET 減小到 1/3 和 1/4,使封裝減小兩個管殼規(guī)格。

由于 COOLMOS 管芯厚度僅為常規(guī) MOSFET 的 1/3,使 TO-220 封裝 RTHJC 從常規(guī) 1℃/W 降到 0.6℃/W;額定功率從125W 上升到 208W,使管芯散熱能力提高。


3.2.3 開關(guān)特性的改善

COOLMOS 的柵極電荷與開關(guān)參數(shù)均優(yōu)于常規(guī)MOSFET,很明顯,由于 QG,特別是 QGD 的減少,使 COOLMOS 的開關(guān)時間約為常規(guī) MOSFET 的 1/2;開關(guān)損耗降低約 50%。關(guān)斷時間的下降也與 COOLMOS 內(nèi)部低柵極電阻(<1Ω=有關(guān)。

 

3.2.4 抗雪崩擊穿能力與 SCSOA

目前,新型的 MOSFET 無一例外地具有抗雪崩擊穿能力。COOLMOS 同樣具有抗雪崩能力。在相同額定電流下,COOLMOS 的 IAS 與 ID25℃相同。但由于管芯面積的減小,IAS 小于常規(guī) MOSFET,而具有相同管芯面積時,IAS 和 EAS 則均大于常規(guī) MOSFET。


COOLMOS 的最大特點(diǎn)之一就是它具有短路安全工作區(qū)(SCSOA),而常規(guī)MOS 不具備這個特性。COOLMOS 的 SCSOA的獲得主要是由于轉(zhuǎn)移特性的變化和管芯熱阻降低。COOLMOS 的轉(zhuǎn)移特性如圖 6 所示。從圖 6 可以看到,當(dāng) VGS>8V 時,COOLMOS 的漏極電流不再增加,呈恒流狀態(tài)。特別是在結(jié)溫升高時,恒流值下降,在最高結(jié)溫時,約為 ID25℃的 2 倍,即正常工作電流的 3-3.5 倍。在短路狀態(tài)下,漏極電流不會因柵極的 15V 驅(qū)動電壓而上升到不可容忍的十幾倍的 ID25℃,使COOLMOS 在短路時所耗散的功率限制在 350V×2ID25℃,盡可能地減少短路時管芯發(fā)熱。管芯熱阻降低可使管芯產(chǎn)生的熱量迅速地散發(fā)到管殼,抑制了管芯溫度的上升速度。因此,COOLMOS 可在正常柵極電壓驅(qū)動,在 0.6VDSS 電源電壓下承受 10ΜS短路沖擊,時間間隔大于 1S,1000 次不損壞,使 COOLMOS 可像 IGBT 一樣,在短路時得到有效的保護(hù)。


3.3 關(guān)于內(nèi)建橫向電場高壓 MOSFET 發(fā)展現(xiàn)狀

繼 INFINEON1988 年推出 COOLMOS 后,2000 年初 ST 推出 500V 類似于COOLMOS 的內(nèi)部結(jié)構(gòu),使 500V,12A 的MOSFET 可封裝在 TO-220 管殼內(nèi),導(dǎo)通電阻為 0.35Ω,低于 IRFP450 的 0.4Ω,電流額定值與 IRFP450 相近。IXYS 也有使用 COOLMOS 技術(shù)的 MOSFET。IR 公司也推出了 SUPPER220,SUPPER247 封裝的超級 MOSFET,額定電流分別為 35A,59A,導(dǎo)通電阻分別為 0.082Ω,0.045Ω,150℃時導(dǎo)通壓降約 4.7V。從綜合指標(biāo)看,這些 MOSFET 均優(yōu)于常規(guī) MOSFET,并不是因?yàn)殡S管芯面積增加,導(dǎo)通電阻就成比例地下降,因此,可以認(rèn)為,以上的 MOSFET 一定存在類似橫向電場的特殊結(jié)構(gòu),可以看到,設(shè)法降低高壓 MOSFET 的導(dǎo)通壓降已經(jīng)成為現(xiàn)實(shí),并且必將推動高壓 MOSFET 的應(yīng)用。


3.4 COOLMOS 與 IGBT 的比較

600V、800V 耐壓的 COOLMOS 的高溫導(dǎo)通壓降分別約 6V,7.5V,關(guān)斷損耗降低 1/2,總損耗降低 1/2 以上,使總損耗為常規(guī) MOSFET 的 40%-50%。常規(guī) 600V 耐壓 MOSFET 導(dǎo)通損耗占總損耗約 75%,對應(yīng)相同總損耗超高速 IGBT 的平衡點(diǎn)達(dá)160KHZ,其中開關(guān)損耗占約 75%。由于 COOLMOS 的總損耗降到常規(guī) MOSFET 的 40%-50%,對應(yīng)的 IGBT 損耗平衡頻率將由 160KHZ 降到約40KHZ,增加了 MOSFET 在高壓中的應(yīng)用。從以上討論可見,新型高壓MOSFET 使長期困擾高壓 MOSFET 的導(dǎo)通壓降高的問題得到解決;可簡化整機(jī)設(shè)計(jì),如散熱器件體積可減少到原 40%左右;驅(qū)動電路、緩沖電路簡化;具備抗雪崩擊穿能力和抗短路能力;簡化保護(hù)電路并使整機(jī)可靠性得以提高。


4.功率 MOSFET 驅(qū)動電路

功率 MOSFET 是電壓型驅(qū)動器件,沒有少數(shù)載流子的存貯效應(yīng),輸入阻抗高,因而開關(guān)速度可以很高,驅(qū)動功率小,電路簡單。但功率 MOSFET 的極間電容較大,輸入電容 CISS、輸出電容 COSS 和反饋電容 CRSS 與極間電容的關(guān)系可表述為:


功率 MOSFET 的柵極輸入端相當(dāng)于一個容性網(wǎng)絡(luò),它的工作速度與驅(qū)動源內(nèi)阻抗有關(guān)。由于 CISS 的存在,靜態(tài)時柵極驅(qū)動電流幾乎為零,但在開通和關(guān)斷動態(tài)過程中,仍需要一定的驅(qū)動電流。假定開關(guān)管飽和導(dǎo)通需要的柵極電壓值為 VGS


開關(guān)管的開通時間 TON 包括開通延遲時間 TD 和上升時間 TR 兩部分。開關(guān)管關(guān)斷過程中,CISS 通過 ROFF 放電,COSS 由 RL 充電,COSS 較大,VDS(T)上升較慢,隨著 VDS(T)上升較慢,隨著 VDS(T)的升高 COSS 迅速減小至接近于零時,VDS(T)再迅速上升。


根據(jù)以上對功率 MOSFET 特性的分析,其驅(qū)動通常要求:觸發(fā)脈沖要具有足夠快的上升和下降速度;②開通時以低電阻力柵極電容充電,關(guān)斷時為柵極提供低電阻放電回路,以提高功率 MOSFET 的開關(guān)速度;③為了使功率 MOSFET 可靠觸發(fā)導(dǎo)通,觸發(fā)脈沖電壓應(yīng)高于管子的開啟電壓,為了防止誤導(dǎo)通,在其截止時應(yīng)提供負(fù)的柵源電壓;④功率開關(guān)管開關(guān)時所需驅(qū)動電流為柵極電容的充放電電流,功率管極間電容越大,所需電流越大,即帶負(fù)載能力越大。


4.1 幾種 MOSFET 驅(qū)動電路介紹及分析

4.1.1 不隔離的互補(bǔ)驅(qū)動電路

圖 7(a)為常用的小功率驅(qū)動電路,簡單可靠成本低。適用于不要求隔離的小功率開關(guān)設(shè)備。圖 7(b)所示驅(qū)動電路開關(guān)速度很快,驅(qū)動能力強(qiáng),為防止兩個 MOSFET 管直通,通常串接一個 0.5~1Ω 小電阻用于限流,該電路適用于不要求隔離的中功率開關(guān)設(shè)備。這兩種電路特點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡單。

 

 

 

 

 

功率 MOSFET 屬于電壓型控制器件,只要柵極和源極之間施加的電壓超過其閥值電壓就會導(dǎo)通。由于 MOSFET 存在結(jié)電容,關(guān)斷時其漏源兩端電壓的突然上升將會通過結(jié)電容在柵源兩端產(chǎn)生干擾電壓。常用的互補(bǔ)驅(qū)動電路的關(guān)斷回路阻抗小,關(guān)斷速度較快,但它不能提供負(fù)壓,故抗干擾性較差。為了提高電路的抗干擾性,可在此種驅(qū)動電路的基礎(chǔ)上增加一級有 V1、V2、R 組成的電路,產(chǎn)生一個負(fù)壓,電路原理圖如圖 8 所示。


當(dāng) V1 導(dǎo)通時,V2 關(guān)斷,兩個 MOSFET 中的上管的柵、源極放電,下管的柵、源極充電,即上管關(guān)斷,下管導(dǎo)通,則被驅(qū)動的功率管關(guān)斷;反之 V1 關(guān)斷時,V2 導(dǎo)通,上管導(dǎo)通,下管關(guān)斷,使驅(qū)動的管子導(dǎo)通。因?yàn)樯舷聝蓚€管子的柵、源極通過不同的回路充放電,包含有 V2 的回路,由于 V2 會不斷退出飽和直至關(guān)斷,所以對于 S1 而言導(dǎo)通比關(guān)斷要慢,對于 S2 而言導(dǎo)通比關(guān)斷要快,所以兩管發(fā)熱程度也不*一樣,S1 比 S2 發(fā)熱嚴(yán)重。該驅(qū)動電路的缺點(diǎn)是需要雙電源,且由于 R 的取值不能過大,否則會使 V1 深度飽和,影響關(guān)斷速度,所以 R 上會有一定的損耗。

 

 

 

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